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怎么制作存储器

发布时间: 2022-12-29 19:34:13

A. word怎么做以储存器为核心的计算机结构图

操作如下:
1、选择SmartArt图形类型。这一步就是先把最初的组织结构图创建出来,启动一个新的文档。在文档中输入“计算器组织机构图”,字号设置为“一号”单击“插入”“SmartArt”,弹出“选择SmartArt图形”对话框,在该对话框左侧列表中选择“层次结构”,在中间区域选择“表层次结构”,右侧我们可以看他的一些说明,点击确定,这样我们就做好了最初的组织机构图
2、设置机构图的布局。我们可以根据需要改变一些布局;单击“设计”我们就可以看见基本栏中间区域“更改布局”我们在这里选择“组织结构图”
3、这会默认的图形可能还不符合我们的要求,我们选中第一行的矩形图形,然后单击“设计”“添加形状”按钮,在下拉菜单中选择“添加助理”选项
4、上一步是在第二行添加。我们这一步是在第三行添加图形。选中第一行的矩形图形,然后单击“设计”“添加形状”按钮,在下拉菜单中选择“在下方添加形状”选项,这样新形状就会出现在第三行里面。
5、在组织结构图中添加文字。设置好布局后,就可以添加文字了,选中第一行矩形,确定插入点在其中,输入“储存器”,再输入的时候,字体会自动调节大小。按照同样的方法,依次输入相关的内容。
6、改变组织结构图的形状。为了区别对待不同层次的关系,我们可以选择相应图形的形状;我们单击“格式”“更改形状”在出现的下拉表中,我们选择想要的图形。
7、按照第七步中方法,我们更改第二行和第三行的图形,最后我们的结构图就制作完成了

B. 我想在单位做一个存储的服务器怎么做呀

做一个FTP服务器,在里面设置权限,在那天电脑上建立各部门的登陆账号,然后让他们点运行连接就行了
http://wenku..com/view/9423b34d2b160b4e767fcf79.html这里面有FTP的架设方法。
权限的设置就直接给每个部门设置一个空文件夹,起好该部门的名字,在文件夹的权限上加入该部门的用户,只保留ADMIN和这个部门的用户其他全删,这样他们就只能进入自己部门的文件夹了

C. 局域网内文件存储量大,如何做一个计算机进行硬盘存储

  1. 如果都用同一个目录,服务器上建立文件夹,并共享给everyone,并给完全控制权限。客户端“映射网络驱动器”,添加“\ip地址共享名”即可。

  2. 如果每个人一个目录互不干涉,服务器上要给每个人建立一个用户,每个人建立一个文件夹,并分配一一对应的共享权限。客户端还是“映射网络驱动器”,方法同上,共享名应该每人一个不一样,用分配到的账号密码登录即可。

  3. 局域网(Local Area Network,LAN)是指在某一区域内由多台计算机互联成的计算机组。一般是方圆几千米以内。局域网可以实现文件管理、应用软件共享、打印机共享、工作组内的日程安排、电子邮件和传真通信服务等功能。局域网是封闭型的,可以由办公室内的两台计算机组成,也可以由一个公司内的上千台计算机组成。

  4. 硬盘是电脑主要的存储媒介之一,由一个或者多个铝制或者玻璃制的盘片组成。盘片外覆盖有铁磁性材料。

D. 如何搭建一个局域网文件存储服务器

最简单的办法:
找一台机器,把其中一个文件夹做成共享,guest权限全开,然后将该文件夹映射驱动器到每个人的电脑上,在他们的电脑上显示的就是一个本地硬盘一样。熟练一点的10分钟搭建完毕。
但是这个有个问题,局域网内每个人都能下载和修改文件,对文件安全性存在一定隐患。但是这个满足基本的存储和共享是没有问题的。
复杂一点的办法:
搭建专业服务器,不管是windows还是linux服务器都有专业的ftp服务器,网上搜一下什么教程啥的都出来了,但是这个不熟练的话,得花些时间搞定。但是这个对文件安全性绝对有保障,控制也更严格,容易管理。

E. 如何制作一个简易电能存储器

大容量,高品质电容可以的。其它的除了电池还真没有见过。

F. 内存是怎么制作的

1. 内存的工作原理
显然,内存指的是PC中常见的内存条,这一类内存属于动态随机访问存储器 DRAM (Dynamic Random Access Memory), 它的基本存储单元非常简单易懂,由一个N型场效应晶体管(NMOS FET)和一个电容组成。在这里可以把晶体管看成一个理想的开关。 当NMOS晶体管打开时,检测电容放电造成的电压改变就是读取0/1的过程,向电容注入不同电荷就是写入过程;NMOS晶体管关闭时,电荷保存在电容上,处于存储状态。
DRAM的优势在于其结构简单,面积小,所以在同样面积内可以塞入更多存储单元,存储密度高,现在内存条的容量都顶得上多年前的硬盘了。大家可以自己算算一根2Gb的内存里面有多少这样的单元。 缺点则是:
1. 每次读取都是破坏性的,电容放电后电荷就尼玛没有了啊,所以还要重新写入一遍啊!!!
2. 电容还尼玛会漏电啊,一般写入后几十个微秒之后就漏得没法检测了(现在的电容一般是25pF),整个阵列都要不停的刷新,就是把已经存储的内容读一次再写进去,期间什么都不能做啊!!!
3. 电容太小导致很多问题,比如速度不能太快啊,会被宇宙粒子打到然后就尼玛中和了啊 ( Soft error ) !!!!
4. 没有电的时候存储的内容就丢掉了,这直接导致大量停电导致的文档丢失等杯具。。。。。
(使得存储器能够在无电时保留信息,台湾人施敏大师和一个韩国人发明了闪存Flash memory。半导体业已经贡献过两个诺贝尔物理学奖:晶体管和集成电路,施敏怕是这个行业中仅存的还有机会拿奖的人,他的合作者早早挂了甚至连专利费都没拿多少。)
2. 如何用半导体工艺制作以上的电路?
DRAM制造工艺是通用的集成电路制作工艺的子集,这个问题就可以转化为“集成电路是如何制造的?”而这个问题就比较复杂了,我争取用“盖楼”这个大家都能理解的例子讲清楚。
集成电路从其横切面来看,是分层的,基本使用同种材料实现类似功能,层与层之间通过通孔(via)做电学连接。
这一结构其实很像一座楼房,芯片制造的过程也有点像盖楼的过程,非常简化的步骤如下:
1. 设计图,也就是芯片的版图(layout);版图是一幅分层的俯视图,包含了每一层的物理形状信息和层与层间的位置连接关系。版图被转化成掩模(mask),每张掩模则是某一层的俯视图,一颗芯片往往有几十张掩模。芯片的每层是被同时制作的,就像盖楼是必须3楼盖好才能盖4楼。(本来想放一些自己手头上的版图和掩模给大家看看,涉及版权等问题,有兴趣的同学自己搜吧)
2. 平整土地。这个没什么说的,绝大部分芯片都是从平整的芯圆(wafer)开始的,要对芯圆进行清洗啊什么的
3. 地基和底层。这是在制造过程中最关键最复杂的一步,因为所有重要的有源器件(active device)如晶体管都是在电路的最底层。 首先要划线(光照Photolithography)界定哪里要挖掉哪里要保留,然后挖坑(ecthing刻蚀),在需要的地方做固化(离子注入Ion Implantation),盖墙铺管道什么的(化学沉积和物理沉积CVD&PVD)等等。具体步骤十分复杂,往往需要十几张掩模才能完成,不过大家可以自行脑补一座大楼怎么从地上长出来的。
4. 高层。较高的层就相对简单了,还是划线决定(光照Photolithography)哪里要做墙或柱子,哪里是空间,再沉积金属把这些东西长出来。这些层次基本都是铜或铝金属连接,少有复杂器件。
5. 封顶。做一层金属化合物固化保护,当然要把连接点(PAD)露出来。
6. 清洗,切割。 这一步盖楼是没有的。。。。一块300毫米直径的晶圆上可能有成百上千块芯片,像切蛋糕一样切下来。
7. 封装。 有点像外立面装修,然后给整座楼通水通电通气。一块小小的硅芯片就变成了我们经常看到的样子,需要的信号和电源被连接到一个个焊球或针脚上。封装是一门很大的学问,对芯片的电气性能影响巨大。

G. 我的世界红石存储器怎么做 红石存储器制作教程

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